逸 出形成 蒸氣 流 ，在基 片表面凝 結成 膜 。生產中根據不同的需要采用各種蝕刻液或蝕刻膏。所以薄膜壓力傳感器適合于要求穩定性好、可靠性高或溫度范圍寬等惡劣條件下的壓力參數測量。金屬薄膜研磨方法 １ ９ 我們 曾制 備 了厚度 為 １． ｍ，Ｒ 、 、Ｒ 分 別 為 、６ 、６ ｎ 為 ３ ８ ８ ｍ 的鈾 膜 ，圖 １ 此類鈾 膜樣 品的表 面 １ 鈾膜 的制備技術 Ａ Ｍ） Ｓ Ｍ） 和橫 斷 面 的原 子 力 顯微 鏡 （Ｆ 、掃 描 電鏡 （Ｅ 鈾 是極 活潑 的金 屬 ，在空氣 中會很 快 氧化 ，鈾 剮 觀察結 果 。Ｃ； ◆使用溫度范圍：４０℃～＋６０℃、＋８０℃、＋１００℃、＋１２５℃、＋１５０℃； ◆絕緣電阻：在正常工作條件下＞１００Ｍ Ｑ；在＋４０＂Ｃ，９５％－－一９８％ＲＨ濕度環境下，＞２Ｍ Ｑ： ◆過載能力：１．５倍滿量程壓力； ◆年穩定性：０．２％； ◆工作壽命：＞１０００ｈ； ◆輸出阻抗：＜１ｋＱ： ◆功耗電流：＜１５ｍＡ。(三)工程量計算規則鏡箱工程量按個計算。

金屬薄膜研磨方法化學侵蝕和機械研磨相結合的方法稱化學研磨法。一般采用硫酸，因硫酸的酸性強，同時沸點高，不易揮發。 濺射薄膜壓力敏感元件的一般結構是：把敏感元件（圖３中序號 １）和接管嘴（圖３中序號２）組成一個封閉的腔體，壓力通過接管 嘴作用到敏感元件上，敏感元件上的四個應變電阻組成惠斯敦電橋， 隨著壓力的變化，敏感元件的不銹鋼彈性體產生應變，從而使應變電 阻產生變化，電橋失去平衡，在激勵電壓的作用下，傳感器輸出發生 變化。軋制 化 學 成份 一 般不 發 生 變化 （ 活潑 金屬 除 Ｃ）口 、 電沉積【 、電噴【 等 ， 】 倒 １ 但這些方法難以制備高 法 可加 工較 大 面積 的金 屬箔 ， 數 １ 厚 ，能獲得 尺寸 質 量極 薄鈾膜 ，在 環境 的污 染方 面 也難 以達 到控 制 精度和面形精度好、晶體密度高的金屬箔 。很多重元素（ 如鈾 、釷） 的薄膜 常作為靶或源應 機械研磨／ 拋光是傳統的制膜方法 ， 主要用于金 用 于低能物理散射實驗ｕ；很多醫用放射性同位素 相制樣 ，屬于“ 去除” 制膜技術范疇。傳感器輸出的變化與所感受的壓力成正比。

其局 限性是難 以控 制厚 度一致 性 。３．濺射薄膜壓力敏感元件的主要制造工藝 濺射薄膜壓力傳感器的主要制作工藝包括膜片的研磨拋光、清洗、成膜、制作光化學圖形和表面保護等。權威可靠，假一賠十！【業務咨詢QQ: [email protected]電話： 手機：1 】 序號 號 技術名稱 本套《金屬研磨方法,金屬研磨液配方工藝裝置技術資料》涵蓋從 5到發貨當日國內金屬研磨方面的全部技術資料；資料含詳細的技術工藝、材料配方、加工方法、制作步驟、說明書附圖等，國家所有均為電子文檔。薄膜式壓力傳感器是利用薄膜技術在彈性上直接制作薄膜應變電路的一體化敏感元件（及薄膜壓力敏感元件），一方面沿用了傳統的彈性體粘貼箔式應變計的電測機理，并繼承了其原有的一些優點，另一方面采用現代薄膜工藝技術，用陶瓷介質代替了粘貼膠層，克服了由膠層引起的蠕變等一系列的弊端，使其在長期穩定性、耐高溫、高輸出阻抗等性能指標得到了極大的提高。金屬薄膜研磨方法 ３．５制作應變電路圖形 制作應變電路圖形一般是先用光刻的方法在膜層上形成掩模，然后進行化學腐蝕或干法刻蝕的方法進行 圖形加工。６．數字式壓力傳感器及其應用 濺射薄膜壓力傳感器具有良好的擴展性，比如可以在其基礎上將輸出的模擬信號進行脈沖變換，使傳感 器輸出信號為頻率與介質壓力成正比的變頻脈沖信號。

很 多研 究者 對鈾 以及 鈾 與其他 元 素 的相互 作 機械 研磨 加工 優點 是 可得 到較 高 的表面 光潔 度 ，甚 ｆ用下 ５ 電子態很感興趣Ｌ， Ｊ ６ 而此類實驗觀察離不開 。以及 薄膜沉積過程 中生長速率 和厚 度監 控的常用 方法。金屬薄膜研磨方法如反應物不斷被清除，則腐蝕作用很均勻，并且得到非常平滑或有光澤的表面。國內外制備金屬鈾膜的技術有鑄造 極 ｂ。如生成的鹽類溶解度小，且以結晶狀態保留在玻璃表面不易清除，遮蓋玻璃表面，阻礙氫氟酸溶液與玻璃接觸反應，則玻璃表面受到的侵蝕不均勻，得到粗糙又無光澤的表面。 此法可大面積快速沉積， ｉ ｏ ｉ（ｏｌ ｇｒｌｃｓｎ ） 備 １０ １０ｇ 鈾 箔 ，ｃｏ ｎ— ｌ ａｔ ｇ法制 ０－ ５ ｍ 具有 ７ ％ ８ ％ ；改 造價便宜 ，沉積鍍料的利用率較高（０ 一 ０ ） 圖 ）鈾原 料純度 為 ９．％，均 勻 和 良好 的微 觀結構 （ ２。

【解】工程量計算：根據設計圖示尺寸以邊框圍面積計算其工程量計算如下：0.9×1.5m2=1.25m2套用消耗量定額6-112清單工程量計算見表317。金屬鈾膜與基底 磨料或拋 光粉 間的相 互滑動（ 去 或滾 動） 除表 面余 ３， 界面的相互作用研究【 】對 了解 固態鈾和其化合物 量 ，從 而達 到減 薄與 拋光 的效 果 。這種數字化的輸出形式抗干擾能力強，適合遠距離傳 輸。金屬薄膜研磨方法 Ｅ ）現各 向異 性 ，在 這種 情 況下 進 行狀 態方 程 （ＯＳ研 ． １４ 高真 空蒸 發沉 積 究對 實驗 結果帶 來 的誤差 尚不清 楚 ，為獲得 所需 結 晶組織 ，往 往要 對鈾 膜進行 ８０ ０ ℃退火 處理 ，時 間 真空 蒸發鍍 膜是在 真 空下加 熱鍍 料 ，使其氣 化 長 ，產 量低 。 參考文獻 ｌ 馬良呈．應變電測與傳感技術．中國計量出版社，１９９３年１１月２ 馬麗杰譯．濺射型應變計與壓力變換器．１９８９年第３期，第２９～３３頁３薛增泉。 傳感器的靈敏度一般為１５ｍＶ左右，通常需配差動放大電路對信號進行放大，以滿足航天遙測系統標準信號ＯＶ～５Ｖ的幅度要求。

 ４．濺射薄膜壓力傳感器的一般結構 濺射薄膜壓力傳感器的一般結構如圖３所示。金屬薄膜研磨方法美國 ｏ ａ ｓ國家實驗 室 則 用 １０ Ｉ ＡＬ ｓ ｌｍｏ ０ Ｊｍ厚 的軋 制態 ．和鑄造態金屬貧鈾膜進行激光加載沖擊波的層裂對 比實驗 。保護層和絕緣介質層一般采 用同種材料，目前大部分薄膜壓力敏感元件生產廠家使用的材料為Ｓｉ０２。 往須對軋制材料作退火處理 ， 消除或減小形變應力。另 一面 拋 的實驗數 據 ， 在 鈾膜 質量 是一 個關 鍵 。３．２膜片的清洗工藝 膜片在成膜前要經過化學試劑超聲波清洗和離子轟擊清洗兩道工藝。

潔凈的膜片表面可以獲得到良好的薄膜結合力，膜片表面清洗不干凈會導致膜層的結合力下降，嚴重時還會導致膜層脫落。更多資料歡迎登陸 咨詢電話： 客服QQ：。金屬薄膜研磨方法 我所研制的數字式壓力傳感器已經能夠滿足型號使用要求，并已參加過某型號的四次飛行試驗， 每次均很好地完成預定任務，表現了良好的精度和可靠性。圖２所示為濺射薄膜壓力敏感元件的主要流程框圖。 為了改善傳感器的性能，通常在一般結構的基礎上進行優化設 計，如為防止接管嘴在安裝時扳手產生的應力傳遞到敏感元件上，在 接管嘴上設計應力隔離槽（圖３中敏感元件下部的細頸）；為改善傳 感器的動態相應特性，在引壓部設計了迷宮結構，如圖３中徑向小孔， 圖３ 壓力傳感器的一般結構 使介質壓力不直接作用在敏感元件上，而是通過四個小孔傳遞到敏感 ２００元件上，迷宮小孔起阻尼作用。干法刻蝕圖形線條邊緣比較整 齊，而且無側向腐蝕，所以一般都采用離子柬干法刻蝕工藝。