奠— 帶 運 Ｉ盥 妻 作耄動進 嘲 ＿ 盤動行 是塞畦 蕾 嘲度 和表面 粗糙度 。平面研磨的運動軌跡及原理 ｎ ， ～ 質量的好 壞 、生 產率 的高 低 、研磨 盤 磨損 的 均勻性 離盤 上 牙齒 的 磨損 ，由于 ’ － ～、等 ，與研磨過程的運動方式 、運動軌跡和 主要運動參 研磨 盤旋 轉 ，研 磨 效 率 也 、、、 ＝ ‘ 、 二 東 ， 、數 的合理選擇有密切 關系。這樣可保證 研磨盤上各點 的磨損量均勻 。這種研磨機可以滿足研磨過程對運動及其軌跡的技術要求。平面研磨機具有兩個獨立的運動。 是假想 的，設轉速為 ｎ。

#從運動學和幾何學原理出發,描述出各種不同類型的軌跡曲線,通過將復雜的運動簡化為：在距一定的條件下，夾具繞研磨盤軸的回轉運動及夾具自身的回轉運動，對工件上一點相對於研磨盤的運動軌跡及瞬時速度進行了分析計算，并編制了相應的計算軟件，以圖形的形式顯示出運動軌跡曲線及瞬時速度的大小，為進一步分析軌跡類型、提高研磨效率、降低研磨成本提供了基本的理論依據。平面研磨的運動軌跡及原理,主要生產：,,,lapping china,polishing china,,,,,導光板模具 拋光機，電話：。本文運動方式 、運動軌 大提 第三類是我 一 豐、 大 高； 們 一一 ． 一 每 ≥ 跡和運動參數 及其對研磨質量 、生產率 、研磨盤磨損 研究設 計 的行 星式 平 面研 ０ 、的影響進行分 析 ，并提 出我們 的看法 。這種不僅可以滿足研磨過程對運動及其軌跡的技術要求,而且結構較簡單,也容易保持兩研磨盤之間的平行度。 率 、隔離盤牙齒磨損情 況 ，均 比前 幾種優越 ，且操作 隔離盤 作偏 心運 動 的 方便。本研究從運動學原理出發，通過理論分析研究了平面研磨機的運動軌跡，并從幾何角度分析了工件上一點相對於研磨盤的運動軌跡及瞬時速度的大小，為進一步分析軌跡類型、提高研磨效率、降低研磨成本提供了基本的理論依據。

并且,由于上、下研磨盤旋轉可以同向旋轉,也可以反向旋轉,行星盤的運動僅起進給作用,這樣可將行星盤的轉速大大降低,從而外銷子盤的銷軸與行星盤牙齒的磨損,將比上一種研磨機小一些,但磨損嚴重仍然是個主要問題。這時 可理解 為研磨 盤 相對于研磨盤 ５的運動速度在 ｔ ：３ ＋） 與 １ ＝３ 一 ８ Ｃ ， １ ＩＢ ３ １ Ｂ靜止不動 ，而假想 系桿 ４的轉速 ＝ 一ｎ，可認 為隔 ∞ 之 間變化 （ ３ ∞為 ｃ點相對 其中 １ 為 Ｂ點速度 ， 一 離盤 ３繞齒 輪 ５作純滾 動 ，這樣 隔離盤 中刀片 ２ 于 Ｂ點的速度） 。研磨機 （ 叫偏 心式 研磨 常 ２ 對平面 研磨機 運動 方式 和運 動軌跡 的基 本要 求 機 ）是一種普 通平 面研磨 為了保證合金刀片端平面有較高的研磨質量 和研 機 ，主要用 來研 磨一般 零 磨效率 ，要求研磨機的運動方式 和運動軌跡滿 足以下 件 ；研磨盤 作行 星運 動 的 要求 ：平面研 磨機 又有 兩種運 動 １ （ ）刀片端 平面相 對 于研磨 盤 的運 動方 向應 不 方式 ：一種 是上 、下研 磨 圖 ｌ 斷變化 。上研磨盤4,下研磨盤5分別以轉速n4，n5作旋轉運動,行星盤即隔離盤2的運動情況與上一種研磨機類似以轉速 n3作自轉運動,以轉速n7沿外銷子盤3作公轉運動,但不同點在于行星盤2由銷子盤1以轉速n1來帶動,而外銷子盤3是固定不動的。并凡年第期行星盤2在外銷子盤3的帶動下,同時與外銷子盤3作內嚙合,與內銷子盤1作外嚙合,從而行星盤2一邊既作自轉運動轉速為n2、,一邊又以轉速n2繞銷子盤1作公轉運動即相當于有一假想系桿 7以轉速n7帶動行星盤2繞銷子盤1轉動。平面研磨的運動軌跡及原理行星式平面研磨機研拋過程運動軌跡分析--《大連理工大學學報》2002年04期#張勤儉;劉媛;葉書強;;[A];2005年中國機械工程學會年會論文集第11屆全國特種加工學術會議專輯[C];2005年。

大量實驗研究表明：工件相對於研磨盤的運動軌跡及運動速度不但與研磨盤的磨損有關，而且與工件的平面度、表面粗糙度及材料的去除率密切相關。研磨材料 正確處理研磨的運動軌跡 - 東莞匯電科技有限#熱門搜索：光學鍍膜材料,濺射靶材,研磨材料,光學夾具,光學耗材,鍍膜機配件,光學鍍膜加工,代理默克,代理日本OPTRON,五氧化三鈦Ti3O5,硼碳氮BCN,二氧化硅SiO2,鈦酸鑭H4,國產OA-600,氮化硼B4C,代理默克H4,代理默克M1,代理默克M2,代理默克WR1。平面研磨的運動軌跡及原理因此,刀片上任一點的運動軌跡是變態外擺線。 （ ）研磨 過程 中 的運 動 ，必 須使 刀片端 平 面上 ２ 行星隔離盤 ２和系桿 ７相對于下研磨盤 ５的轉速 的每點 相對 于研磨盤 的滑動路程相等。這樣才 能保證 為：刀片上各點切 削掉 相同余量 ，以保證被研磨 刀片端平 ３ ５［ 一ｕ３（ｌ ） ｚ ｎ １ ｌ ｚ／３ ］ 一 １ （） 面的平 面度 和兩端平 面間 的平行度 。它是將一批合金刀片置于上 、下研磨盤 二種是上 、下研磨 盤旋 轉 ，隔離 盤作 行 星運 動 （圖 之 間 。

ｃ點每一 周期實 際平 均速度可 按公 上的任一點 ｃ的運 動軌 跡是 變態外 擺線 或稱 短幅 外 ３ Ｔ 來計算 （ ＝ 式 １ Ｌ／ ｃ 其中，￡ 為 Ｃ點每一運 動周期 擺線 。平面研磨的運動軌跡及原理平面研磨機從運動學和幾何學原理出發,描述出各種不同類型的軌跡曲線。用隔 離盤把刀 片相互 隔開 ，并 在研磨 盤 與刀 ） １ ，研磨 盤 的旋 轉 運動 是 ２ １ ３片之 間加入研磨劑 ，通過研磨盤與被研 刀片之 間的相 對切削運動 ，使合金刀片兩端平面刃磨到所要求 的精 星 給。 ｎ） ． 圖 ３是第三類平面研 磨機的運動軌跡 ，設下研磨 ２、Ｒ５ ｎ５ ７ ３ 是計算 １ 、Ａ和 ａ的基本數據 。 ３＝ｎ 一ｎ ；傳動 比 ｕ ＝ （ Ｉ ５ 式 中，ｎ５ ３ ５ ３ Ｉ ｎ一 ｎ —ｎ ）／ （ ３ ３ 行 星式 平面研 磨機 的運 動軌跡 分析 ；ｚ、 為 內銷子盤 ｌ和外銷子盤 ３的銷軸數 。這樣才能使研磨磨料不 斷地在新 的方 向上起 盤 固定 不 動 ，研 磨 機 的 主 切削作用 ，避免在刀片端平面上 產生重復軌跡 ，以獲 · ｌ ｌ Ｏ· ＜ ０ ４ Ｎ ． 機床與液壓＞ ２０ ． ｏ ３ 得較 高的研磨表 面質量 。

 由于刀 片平 面是 在研 磨機 上進 行 運 動，這種 方式 可 以大 大 的，研磨過程很難 由操作人 員隨意加 以控制 ，但研磨 降低銷 子 盤上 銷子 軸 和 隔 ’ ，。研磨時,刀片6分別放置在若干個（通常是4-6個）獨立的行星盤即隔離盤2的各分離通孔中,上研磨盤4、下研磨盤5和銷子盤即內銷子盤1都固定不動,而外銷子盤3以轉速n3、作旋轉運動。平面研磨的運動軌跡及原理無論 從 研磨 質量 、研磨 效 的。依據軌跡的發生原理，假定研磨盤靜止不動，夾具的運動應該是繞研磨盤的公轉運動與繞夾具自轉運動的合成，從幾何角度分析，描述出各種不同類型的軌跡曲線。ｐ ｏ ｕ ｔ ｔ ｔ ｖ ｙ ｎ ｈ ｂ ａ ｉｎ ｕ ｉ ｍｉ ｆ ｈ ａ ｉｅ ｄ ｓ ｗ ｒ ｎ ｚ ｄ ｏ ｙ ｔ ｂｆ ｃ ｕ ｌ ｙ ｒ ｄ ｃｉｉ 。刀片6上任一點相對于研磨盤的運動速度是變化的,其運動軌跡根據行星盤2與假想系桿7之間的傳動比大小不同,而分別呈內、外擺線或變態內、外擺線。

刀片平面研磨機運動原理 -東莞市金研精密研磨機械制造有限#刀片平面研磨機運動原理 刀片運動原理：1、上、下研磨盤固定不動,研磨運動完全由隔離盤的行星運動來完成。研磨運動軌跡-學術百科-知網空間#研磨運動軌跡??lapping motion path手工研磨運動軌跡形式見表3-55,機械研磨運動軌跡形式見表3-56,研具壓砂程序見表3-57,...表3-63研磨缺陷的原因及防止方法缺陷原因防止方法表面粗糙（1）磨料過粗（2）研磨液不當（3）研磨劑涂得太厚（1）正確選用研磨料（2）正確。盤 ｌ的轉速為 ｎ 若將 整個系統加 以“ ”的轉速 ，則 ， 一ｎ 若在被研磨 合金 刀片端平 面上任取一 點 ｃ，ｃ點 研磨 盤的轉速為 ｎ ＝ｎ ０ —ｎ＝ 。但是,其主要缺點是內、外銷子盤上的幾十個銷軸以及與之嚙合的行星盤牙齒容易磨損需經常維修更換銷軸和行星盤.2、上下研磨盤旋轉隔離盤作行星運動這種研磨機的工作原理如圖2所示。平面研磨的運動軌跡及原理 ＝ ＿＿ ———ｉ＝ ｓ ———＿： — （ ）研磨 運動方 式 和運動 軌跡 ，應 盡 可能使 研 ３ ３（ ／ 弘 １ ｌ ｌ３］ ｎ ［ ＋ｕ ｚ ｚ） ７ ７ ｓ ———ｉ ５ 一 ———＿ 一 ２ （）磨 盤的幾何形狀精度保持較長時間不變。 的軌跡長度 ， 為周期 ） ３和.。